• 主题
高级搜索  >
历史搜索 清空历史
首页> 中国专利> 基于表面等离子体共振腔的超深亚波长可调谐纳米光刻结构与方法

基于表面等离子体共振腔的超深亚波长可调谐纳米光刻结构与方法

页面导航
  • 摘要
  • 著录项
  • 法律信息
  • 相似文献

摘要

本发明公开了一种基于表面等离子体共振腔的超深亚波长纳米光刻结构，所述光刻结构依次包括透明的上基底层、金属光栅层、光刻胶层和下基底层，其特征在于：在所述光刻胶层和下基底层之间设置有金属薄膜层，所述金属光栅层、光刻胶层和金属薄膜层一起构成表面等离子体的共振腔结构。本发明可以通过调节光刻胶的厚度来改变条纹的分辨率，突破了传统利用表面等离子体光刻技术在分辨率、调谐性以及曝光深度方面的局限性，为可调谐、超深曝光深度、大区域以及任意形状的二维光刻开辟了新的道路。

著录项

  • 公开/公告号CN102053491B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-04-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 苏州大学;

    申请/专利号CN201010585229.8

  • 发明设计人 王钦华;葛伟豪;曹冰;

    申请日2010-12-13

  • 分类号G03F7/00(20060101);G03F7/20(20060101);B82Y40/00(20110101);

  • 代理机构32103 苏州创元专利商标事务所有限公司;

  • 代理人陶海锋

  • 地址 215123 江苏省苏州市苏州工业园区仁爱路199号

  • 入库时间 2022-08-23 09:13:59

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-02-01

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/00 授权公告日:20130410 终止日期:20151213 申请日:20101213

    专利权的终止

  • 2015-12-09

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 7/00 变更前: 变更后: 申请日:20101213

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2013-04-10

    授权

    授权

  • 2011-06-29

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/00 申请日:20101213

    实质审查的生效

  • 2011-05-11

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

  • 客服微信

  • 服务号