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去除沉积物的气体和使用该气体的去除方法

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本发明涉及一种通过气固反应去除沉积物的气体。这种气体包括一种次氟化物，所说的次氟化物定义为在其分子中至少有一个OF基团的化合物。用该气体可以去除各种沉积物，由于使用了次氟化物，该气体在去除所说的沉积物之后可以容易地使其对全球环境无害。本发明还涉及一种用所说的气体去除沉积物的方法。这种方法包括步骤(a)使所说的气体与所说的沉积物接触，从而通过气固反应去除所说的沉积物。

著录项

公开/公告号CN1119385C

专利类型发明授权
公开/公告日2003-08-27

原文格式PDF
申请/专利权人森陶硝子株式会社;
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申请/专利号CN98125349.0
发明设计人毛利勇;田村哲也;大桥满也;
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申请日1998-12-18
分类号C09K13/00;
代理机构11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;
代理人龙传红
地址日本山口县
入库时间 2022-08-23 08:56:28

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2017-02-08

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C09K 13/00 授权公告日:20030827 终止日期:20151218 申请日:19981218

专利权的终止
2003-08-27

授权

授权
1999-08-18

公开

公开
1999-07-21

实质审查请求的生效

实质审查请求的生效

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