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包括新丙烯酸系单体的光刻胶用共聚物和包括其的光刻胶用树脂合成物

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摘要

一种包括新丙烯酸系单体的光刻胶用共聚物和包括其的光刻胶用树脂合成物。根据本发明的一个实施例的光刻胶用树脂合成物，包括：100个重量单位的以下列化学式3表示的共聚物；0.5到15个重量单位的光酸发生剂；和700到1500个重量单位的溶剂。[化学式3]

著录项

公开/公告号CN102731715B

专利类型发明专利
公开/公告日2014-11-26

原文格式PDF
申请/专利权人韩国锦湖石油化学株式会社;
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申请/专利号CN201110176511.5
发明设计人申珍奉;金真湖;申大铉;李承宰;
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申请日2011-06-28
分类号
代理机构北京鸿元知识产权代理有限公司;
代理人黄丽娟
地址韩国首尔
入库时间 2022-08-23 09:21:49

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2017-08-18

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C08F 220/18 授权公告日:20141126 终止日期:20160628 申请日:20110628

专利权的终止
2014-11-26

授权

授权
2014-11-26

授权

授权
2012-12-12

实质审查的生效 IPC(主分类):C08F 220/18 申请日:20110628

实质审查的生效
2012-12-12

实质审查的生效 IPC(主分类):C08F 220/18 申请日:20110628

实质审查的生效
2012-10-17

公开

公开
2012-10-17

公开

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1. 包括新丙烯酸系单体的光刻胶用共聚物和包括其的光刻胶用树脂合成物 [P] . 中国专利： CN102731715B . 2014.11.26
2. 用于氯乙烯树脂组合物的加工助剂的丙烯酸系共聚物、制备该丙烯酸系共聚物的方法和包含该丙烯酸系共聚物的氯乙烯树脂组合物 [P] . 中国专利： CN101516935B . 2011.07.27
3. The photoresist monomer, copolymers thereof, and a photoresist composition including the same [P] . 韩国专利： KR100448860B1 . 2005-02-23

机译：光刻胶单体，其共聚物以及包括该光刻胶单体的光刻胶组合物
4. Process to produce a polymer or copolemer from a monomer consisting of an acrylate, methacrylate or a mixture of such monomers, resin made by it, process for mass polymerisation for the preparation of poly (butyl acrylate co-acrylate of 2-ethylhexyla),solvent free resin, mass polymerisation process for the preparation of solvent-free poly (butyl acrylate co-acrylate with 2-ethyl hexyla) substantially solvent-free poly (butyl acrylate with co-acrylate with 2-ethylhexyla) free, process comprising a step to cover articles of manufacture with a resin composition, articles of manufacture, solvent-free polymerised reaction product, mass polymerisation process for the preparation of polymer or copolemer substantially solvent-free, and product made by the solvent [P] . BR9814831A . 2000-10-03

机译：由丙烯酸酯，甲基丙烯酸酯或这些单体的混合物组成的单体生产聚合物或共聚物的方法，由其制得的树脂，本体聚合制备聚（丙烯酸2-乙基己基酯的丙烯酸丁酯）的方法，溶剂不含树脂的本体聚合方法，用于制备不含溶剂的聚（丙烯酸丁酯和2-乙基己基丙烯酸酯共丙烯酸酯），基本上不含溶剂的聚丙烯酸丁酯和带有2-乙基己基丙烯酸酯共丙烯酸酯的方法，该方法包括以下步骤：涵盖具有树脂组合物的制品，制品，无溶剂的聚合反应产物，用于制备基本上无溶剂的聚合物或共聚物的大规模聚合方法以及由溶剂制得的产物
5. Monomer for photoresist, polymer thereof and photoresist composition including the same [P] . 韩国专利： KR101421175B1 . 2014-07-24

机译：用于光刻胶的单体，其聚合物和包括该单体的光刻胶组合物