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高纯度铒的制造方法、高纯度铒、包含高纯度铒的溅射靶以及以高纯度铒为主要成分的金属栅膜

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摘要

一种高纯度铒的制造方法，其特征在于，将粗氧化铒与还原金属混合后，在真空中加热，将铒还原并蒸馏，再将其在惰性气氛中熔融从而得到高纯度的铒；以及一种高纯度铒，其特征在于，除稀土元素和气体成分以外的纯度为4N以上，氧含量为200重量ppm以下。本发明的课题在于提供能够有效且稳定地提供蒸气压高、在金属熔融状态下难以纯化的铒的高纯度化方法及由此得到的高纯度铒、以及包含高纯度材料铒的溅射靶及以高纯度材料铒为主要成分的金属栅用薄膜的技术。

著录项

公开/公告号CN102301018B

专利类型发明专利
公开/公告日2015-07-15

原文格式PDF
申请/专利权人吉坤日矿日石金属株式会社;
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申请/专利号CN201080006117.0
发明设计人新藤裕一朗;八木和人;
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申请日2010-01-13
分类号
代理机构中原信达知识产权代理有限责任公司;
代理人王海川
地址日本东京
入库时间 2022-08-23 09:27:07

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2017-04-12

专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C22B 59/00 变更前: 变更后: 申请日:20100113

专利权人的姓名或者名称、地址的变更
2015-07-15

授权

授权
2012-02-15

实质审查的生效 IPC(主分类):C22B 59/00 申请日:20100113

实质审查的生效
2011-12-28

公开

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