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用计算机控制的等离子体源离子渗氮工艺及设备

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材料表面改性领域中用计算机控制的等离子体源离子渗氮工艺及设备，工艺包括：工件准备、装炉抽真空、充氮气、注渗和停机出炉工艺步骤；特征：通过计算机[14]自动调控正负脉冲对的频率，占空比和幅值实现温度控制，使之按设定的渗氮温度典线变化；渗氮剂量由计算机监测和计算。设备包括：主真空室、供电、供气和抽气系统，还包括与主真空室相连的微波源系统[29]和与计算机相连的自动监控系统；主真空室[21]外侧由小块永久磁铁[20]构成会切磁场，两侧设有带石英窗[17]的电子回旋共振反应室[18]，它的外侧设有电磁线圈[19]，微波束通过石英窗进入反应室，与磁场共同作用使氮气产生高密度等离子体。优点：简化设备，降低能耗40%，过程完全自动化，工艺稳定安全，不打火不起弧，重复性好。

著录项

公开/公告号CN1184346C

专利类型发明授权
公开/公告日2005-01-12

原文格式PDF
申请/专利权人大连理工大学;
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申请/专利号CN99101568.1
发明设计人邓新绿;马腾才;王德真;王延平;杨福宝;陆文琪;张家良;阎海洋;
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申请日1999-01-23
分类号C23C8/36;
代理机构大连理工大学专利中心;
代理人修德金
地址 116024 辽宁省大连市甘井子区凌工路2号
入库时间 2022-08-23 08:57:17

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2009-03-25

专利权的终止(未缴年费专利权终止)

专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2005-01-12

授权

授权
2000-08-09

公开

公开
1999-08-04

实质审查请求的生效

实质审查请求的生效

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