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用于半导体制造设备的清洗设备、清洗半导体制造设备的方法以及制造半导体器件的方法

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摘要

一种用于半导体制造设备的清洗设备包括：氧化物移除装置，其移除粘附于半导体制造设备的构件的沉积物的表面上的氧化物；以及沉积物移除装置，其在通过氧化物移除装置移除表面上的氧化物之后移除沉积物。

1. 用于半导体制造设备的清洗设备、清洗半导体制造设备的方法以及制造半导体器件的方法 [P] . 中国专利： CN102637587B . 2015.12.16
2. 制造半导体器件的方法、半导体器件以及半导体制造设备 [P] . 中国专利： CN101964308B . 2013.05.29
3. Semiconductor manufacturing apparatus for use in process of cleaning semiconductor substrate and method of manufacturing semiconductor device using the same [P] . 美国专利： US2008006295A1 . 2008-01-10

机译：用于清洗半导体衬底的过程中的半导体制造设备以及使用该半导体制造设备的半导体器件的制造方法
4. method of cleaning a nitride semiconductor manufacturing equipment for the member, and the cleaning apparatus of the nitride semiconductor manufacturing equipment member [P] . 日本专利： JPWO2013047506A1 . 2015-03-26

机译：清洗该构件的氮化物半导体制造设备的方法和该氮化物半导体制造设备构件的清洗设备
5. Semiconductor device manufacturing facility equipped with cleaning means and cleaning method of semiconductor device manufacturing facility using the same [P] . 韩国专利： KR19990075532A . 1999-10-15

机译：配备有清洁装置的半导体器件制造设备以及使用该半导体器件制造设备的半导体器件制造设备的清洁方法