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金属氧化膜的成膜方法、金属氧化膜及金属氧化膜的成膜装置

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摘要

本发明的目的是提供一种可以使形成的金属氧化膜维持在低电阻且进一步提高生产效率的金属氧化膜的成膜方法。而且，在本发明的金属氧化膜的成膜方法中，将含有金属元素和氨(4a)的溶液(4)雾化。另一方面，加热基板(2)。然后，向该加热中的基板(2)的第一主面上供给经雾化的溶液(4)。

1. 金属氧化膜的成膜方法、金属氧化膜及金属氧化膜的成膜装置 [P] . 中国专利： CN102405305B . 2016.03.16
2. 金属氧化膜的成膜方法、金属氧化膜及金属氧化膜的成膜装置 [P] . 中国专利： CN102482777A . 2012-05-30
3. Method of forming a metal oxide film, film-forming apparatus of the metal oxide film and metal oxide film [P] . 日本专利： JPWO2010122629A1 . 2012-10-22

机译：金属氧化物膜的形成方法，金属氧化物膜的成膜装置及金属氧化物膜
4. METHOD OF MANUFACTURING METAL OXIDE FILM, METAL OXIDE FILM, ELEMENT USING THE METAL OXIDE FILM, SUBSTRATE WITH METAL OXIDE FILM, AND DEVICE USING THE SUBSTRATE WITH METAL OXIDE FILM [P] . 美国专利： US2013101867A1 . 2013-04-25

机译：制造金属氧化物膜，金属氧化物膜，使用金属氧化物膜的元素，用金属氧化物膜的基质，以及使用金属氧化物膜的基质的装置的制造方法
5. METHOD FOR PRODUCING METAL OXIDE FILM, METAL OXIDE FILM, ELEMENT USING THE METAL OXIDE FILM, SUBSTRATE WITH METAL OXIDE FILM, AND DEVICE USING THE SUBSTRATE WITH METAL OXIDE FILM [P] . 世界知识产权组织专利： WO2011155635A1 . 2011-12-15

机译：制备金属氧化物膜的方法，金属氧化物膜，使用金属氧化物膜的元素，用金属氧化物膜的基质，以及使用金属氧化物膜的基质的装置