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盆栽植物栽植盆底孔盖

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本实用新型提出的是盆栽植物栽植盆底孔盖,它包括五大类型,即基本型、调节型、磁化型、化学制剂释放型及复合型,各类型的共同特征是在底孔盖上具有贯通其正背面两面的通透孔(或凹槽),将底孔盖遮盖于栽植盆内底孔上,底孔盖的通透孔(或凹槽)与底孔相通,可供空气与水分流通,确保盆栽植物正常生长发育。由于各类底孔盖的制作材料或结构不同,其功能各有所长,各自具有独特的促进或调控盆栽植物生长发育的作用。

著录项

公开/公告号CN2294559Y

专利类型
公开/公告日1998-10-21

原文格式PDF
申请/专利权人施建达;
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申请/专利号CN97206967.4
发明设计人施建达;
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申请日1997-01-14
分类号A01G9/02;
代理机构
代理人
地址 215600 江苏省张家港市种子公司
入库时间 2022-08-21 22:38:26

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2002-02-27

专利权的终止未缴年费专利权终止

专利权的终止未缴年费专利权终止
1998-10-21

授权

授权

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