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一种改善非晶硅薄膜光致衰退效应的装置

摘要

本实用新型公开一种改善非晶硅薄膜光致衰退效应的装置,包括热丝化学气相沉积真空室及真空泵,真空室的顶部装有混合气体进气管道,真空室内部装有分解混合气体的电热丝和加热玻璃衬底的电加热器,在真空室内相对两侧的内壁上各装一个类太阳光谱的氙灯持续照射本征非晶硅薄膜的沉积过程,氙灯的安装位置高于玻璃衬底的上表面。通过在热丝化学气相沉积过程中,以类太阳光谱的氙灯持续照射薄膜形成的整个过程,薄膜在形成的整个过程经受类似耐光照性能的训练,提高薄膜成形后的光照稳定性能,在光照条件下,薄膜内部微结构向着有利于抗光照衰退的趋势转化,使得非晶硅薄膜光致衰退效应得到改善。

著录项

  • 公开/公告号CN202808935U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2013-03-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201220483163.6

  • 发明设计人 彭寿;马立云;崔介东;王芸;

    申请日2012-09-21

  • 分类号C23C16/24(20060101);C23C16/48(20060101);C23C16/52(20060101);H01L31/20(20060101);

  • 代理机构34113 安徽省蚌埠博源专利商标事务所;

  • 代理人倪波

  • 地址 233010 安徽省蚌埠市禹会区涂山路1047号

  • 入库时间 2022-08-21 23:43:59

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-11-09

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C16/24 授权公告日:20130320 终止日期:20150921 申请日:20120921

    专利权的终止

  • 2013-03-20

    授权

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