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公开/公告号CN208076248U
专利类型实用新型
公开/公告日2018-11-09
原文格式PDF
申请/专利权人 亚洲硅业(青海)有限公司;
申请/专利号CN201820272109.4
发明设计人 田润朝;征取;拜黎洁;王彩娟;张海燕;陈英;魏东亮;
申请日2018-02-26
分类号G01N1/28(20060101);G01N1/44(20060101);
代理机构11371 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人孙辉
地址 810007 青海省西宁市经济技术开发区金硅路1号
入库时间 2022-08-22 06:57:41
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-06-30
专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G01N1/28 变更前: 变更后: 申请日:20180226
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
2018-11-09
授权
机译: 检测半导体制造气体中的痕量杂质涉及将工艺气体与可电离的气体混合并电离杂质以强制其排放
机译: 改进用于检测气体中痕量大气杂质的离子迁移谱仪性能的方法
机译:使用MC-ICP-MS和同位素稀释质谱法对环境空白样品中痕量铀中的痕量杂质进行系统评估,用于环境痕量样品的超痕量分析
机译:具有固相萃取和石墨烯氧化物量子点阵列的一种集成的微流体装置,用于高敏感和多重痕量金属离子检测
机译:用于检测痕量气体杂质的多通道激光方案中的参考信号和相移方法
机译:用于检测燃料电池应用氢气中痕量杂质的新分析装置
机译:过氧化氢的痕量蒸气检测:一种识别简易爆炸装置的有效方法。
机译:一种改进的热分析方法用于定量药物粉末中痕量多态杂质
机译:一项初步研究的结果和建议用于检测硅中痕量重质杂质的高电流脉冲纳秒低能量si离子束的建议