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一种曝光机基板载台及曝光机

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摘要

本实用新型涉及一种曝光机基板载台及曝光机，包括具有用于承托基板的上表面的载台本体；多个且设置在载台本体的上表面的支撑柱；铺设在载台本体的上表面的气垫，气垫上设置有供支撑柱穿过的柱孔；气垫充气后的上表面与支撑柱的上端位于同一水平面。本实用新型在进行曝光作业时，使气垫处于充气状态，此时，气垫的上表面与支撑柱的上端面形成一个支撑基板的平面，基板置于该平面上进行曝光时，由于气垫和支撑柱紧贴基板的下表面，基板下方无空隙，曝光过程中，支撑柱与其他位置的温度和能量差异几乎消失，从而有效避免由于温度差异而产生的stage mura问题，有效增加产品良率，特别时厚度较薄的玻璃基板，改善效果最佳。

著录项

  • 公开/公告号CN209606774U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2019-11-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东旭(昆山)显示材料有限公司;东旭光电科技股份有限公司;

    申请/专利号CN201920667064.5

  • 发明设计人 汪杰;

    申请日2019-05-10

  • 分类号

  • 代理机构北京连和连知识产权代理有限公司;

  • 代理人张涛

  • 地址 215333 江苏省昆山市经济技术开发区蓬溪北路500号

  • 入库时间 2022-08-22 11:14:25

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-11-08

    授权

    授权

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