公开/公告号CN212644484U
专利类型实用新型
公开/公告日2021-03-02
原文格式PDF
申请/专利权人 苏州晶方光电科技有限公司;
申请/专利号CN202021780630.2
发明设计人 万佳;
申请日2020-08-24
分类号F21V5/00(20180101);F21V5/04(20060101);F21V11/08(20060101);F21S8/00(20060101);F21V19/00(20060101);F21W107/10(20180101);
代理机构32295 苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙);
代理人田媛
地址 215126 江苏省苏州市工业园区长阳街133号B栋118室
入库时间 2022-08-22 19:59:19
机译: 一种测量方法,其测量投影光学系统的变焦比,该投影光学系统投射以修正方式及其修正方式运行的,显示投影仪零原图像的图像光。
机译: 包括这种类型的成像光学系统的显微照相术的成像光学系统投影曝光装置以及利用这种类型的投影曝光装置制造微结构部件的方法
机译: 成像光学系统,包括这种类型的成像光学系统的微光刻照相术的投影安装以及用于制造具有这种类型的投影曝光体的微结构部件的方法