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一种半导体光电材料生产用打磨设备

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摘要

本实用新型公开了一种半导体光电材料生产用打磨设备，包括底座，底座的上表面上设置有调节机构，调节机构的内部设置有打磨机构，调节机构包括滑槽，滑槽开设在底座的上表面上，滑槽的内部固定连接有固定杆，固定杆插接在通孔内部，通孔开设在滑板的下端侧壁上，滑板的下端滑动连接在滑槽内部，本实用新型的有益效果是：通过弧形卡块的支撑使的转筒只可围绕自身圆心转动，转动转动进而带动外壁上固定的电机围绕材料转动，电机转动时带动螺纹杆围绕材料转动，螺纹杆带动螺纹筒围绕材料转动，螺纹筒带动磨具围绕材料转动，进而对材料的多个面进行打磨，模具沿着转筒的轨迹转动可有效防止模具晃动对材料造成损伤。

著录项

  • 公开/公告号CN214559785U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2021-11-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安恩腾智能科技有限公司;

    申请/专利号CN202022534410.8

  • 发明设计人 高磊;高蕊;

    申请日2020-11-05

  • 分类号B24B19/22(20060101);B24B41/06(20120101);B24B41/04(20060101);B24B47/22(20060101);B24B47/12(20060101);B24B47/20(20060101);

  • 代理机构61214 西安弘理专利事务所;

  • 代理人涂秀清

  • 地址 710065 陕西省西安市高新区科技路48号创业广场1幢C0101号房F458室

  • 入库时间 2022-08-23 01:32:07

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