公开/公告号CN106342099B
专利类型发明专利
公开/公告日2011-06-08
原文格式PDF
申请/专利权人 中国航空工业第六一八研究所;
申请/专利号CN200810075544.9
申请日2008-05-27
分类号
代理机构中国航空专利中心;
代理人梁瑞林
地址 710065 陕西省西安市电子一路92号
入库时间 2022-08-23 09:50:57
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-06-19
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 14/00 授权公告日:20110608 终止日期:20170527 申请日:20080527
专利权的终止
2017-01-18
保密专利的解密 IPC(主分类):C23C 14/00 申请日:20080527
保密专利的解密
2017-01-18
保密专利的解密 IPC(主分类):C23C 14/00 申请日:20080527
保密专利的解密
2011-06-08
保密专利专利权授予
保密专利专利权授予
2011-06-08
保密专利专利权授予
保密专利专利权授予
机译: 用于形成磁性薄膜的镍铁合金溅射靶材,用于制造磁性薄膜的镍铁合金溅射靶材和用于形成磁性薄膜的镍铁合金溅射靶材
机译: 溅射靶材,制造用于溅射靶材的铝材料的方法以及用于溅射靶材的铝材料
机译: 溅射靶材,制造用于溅射靶材的铝材料的方法以及用于溅射靶材的铝材料