法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-07-28
授权
授权
2014-07-09
实质审查的生效 IPC(主分类):A61N 5/10 申请日:20120921
实质审查的生效
2014-07-09
实质审查的生效 IPC(主分类):A61N 5/10 申请日:20120921
实质审查的生效
2013-04-03
公开
公开
2013-04-03
公开
公开
机译: 用于校正带电粒子束的照射位置的程序,用于校正带电粒子束的照射位置的装置,带电粒子束的照射系统以及用于校正带电粒子束的照射位置的方法
机译: 照射计划装置,照射计划程序,照射计划确定方法以及带电粒子照射系统
机译: 用带电粒子的射线照射的装置具有用于照射光致抗蚀剂膜的照射模块,该光致抗蚀剂膜通过带电粒子的射线的照射而附着有抗静电膜。