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EUV光源和曝光装置、校准装置和校准方法

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摘要

一种EUV光源和曝光装置、校准装置和校准方法，所校准装置，包括：位于辐射位置的发光体，发光体具有沿直线扫描方向排布的若干发光源，若干发光源适于向外依次发射光线；聚光镜载台，适于装载待校准的聚光镜，并驱动待校准的聚光镜旋转扫描，使得待校准的聚光镜的椭球型反射面收集发光源发射的光线，并将收集的光线反射汇聚于中心焦点；位于中心焦点处的阵列探测器，阵列探测器具有标准中心点，阵列探测器的标准中心点与中心焦点重合，所述阵列探测器适于检测聚光镜反射的光线，获得检测光斑，并判断检测光斑与标准中间点的位置差异。本发明校准装置能够对EUV光源的聚光镜的偏移量实现精确的校准，提高了EUV光源输出的极紫外光的功率。

著录项

  • 公开/公告号CN105573060B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-12-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;

    申请/专利号CN201410548939.1

  • 发明设计人 伍强;岳力挽;

    申请日2014-10-16

  • 分类号

  • 代理机构北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人应战

  • 地址 201203 上海市浦东新区张江路18号

  • 入库时间 2022-08-23 10:03:56

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-12-01

    授权

    授权

  • 2016-06-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20141016

    实质审查的生效

  • 2016-05-11

    公开

    公开

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