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半导体器件、功率半导体器件及加工半导体器件的方法

摘要

本发明涉及一种半导体器件。根据各个实施例,一种半导体器件可包括形成在半导体器件的表面处的层堆叠,层堆叠包括具有第一金属或金属合金的金属化层以及覆盖金属化层的保护层,保护层包括第二金属或金属合金,其中第二金属或金属合金比第一金属或金属合金的贵金属性更低。

著录项

  • 公开/公告号CN105655313B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-10-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 英飞凌科技股份有限公司;

    申请/专利号CN201510849708.9

  • 申请日2015-11-27

  • 分类号H01L23/488(20060101);

  • 代理机构11256 北京市金杜律师事务所;

  • 代理人郑立柱

  • 地址 德国诺伊比贝尔格

  • 入库时间 2022-08-23 10:20:15

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-10-26

    授权

    授权

  • 2016-07-06

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L23/488 申请日:20151127

    实质审查的生效

  • 2016-07-06

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 23/488 申请日:20151127

    实质审查的生效

  • 2016-06-08

    公开

    公开

  • 2016-06-08

    公开

    公开

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