首页> 中国专利> 用于光学元件加工的数控湿法化学刻蚀组合喷嘴

用于光学元件加工的数控湿法化学刻蚀组合喷嘴

摘要

本发明提供的用于光学元件加工的数控湿法化学刻蚀组合喷嘴包括外喷嘴筒、内喷嘴筒和位于内喷嘴筒内用于喷出化学刻蚀液的喷口组件,所述外喷嘴筒和内喷嘴筒均由直圆筒段和异形锥筒段构成,外喷嘴筒通过作为其筒底的环形板与内喷嘴筒联接,外喷嘴筒的直圆筒段设计有乙醇蒸汽进口,外喷嘴筒内壁面和内喷嘴筒的外壁面形成用于乙醇蒸汽喷出的环形喷腔,环形喷腔的出口为长方形;所述喷口组件由成一排设置的多个喷口和与喷口相通的进液室构成,进液室设计有化学刻蚀液进口,喷口组件通过进液室设置在内喷嘴筒的筒底上,喷口组件的喷口端面高于环形喷腔的出口端面。该组合喷嘴可提高对光学元件的高频误差、表面破坏层和亚表面损伤层去除的加工效率。

著录项

  • 公开/公告号CN107116479B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-11-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 四川大学;

    申请/专利号CN201710340812.4

  • 发明设计人 张蓉竹;芈绍桂;付文静;

    申请日2017-05-15

  • 分类号

  • 代理机构成都科海专利事务有限责任公司;

  • 代理人吕建平

  • 地址 610065 四川省成都市武侯区一环路南一段24号

  • 入库时间 2022-08-23 10:21:43

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-11-20

    授权

    授权

  • 2017-09-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):B24C5/04 申请日:20170515

    实质审查的生效

  • 2017-09-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):B24C 5/04 申请日:20170515

    实质审查的生效

  • 2017-09-01

    公开

    公开

  • 2017-09-01

    公开

    公开

  • 2017-09-01

    公开

    公开

查看全部

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号