首页> 中国专利> 一种基板及用于对其进行退火的退火方法、退火设备

一种基板及用于对其进行退火的退火方法、退火设备

页面导航

摘要
著录项
法律信息
相似文献

摘要

本发明公开了一种基板及用于对其进行退火的退火方法、退火设备，涉及显示技术领域，能够进一步改善薄膜晶体管阈值电压漂移的现象。本发明实施例提供的基板包括衬底基板和位于所述衬底基板上的栅线和薄膜晶体管，所述薄膜晶体管的有源层的材质为氧化物半导体，所述薄膜晶体管的栅极电连接所述栅线，所述基板还包括至少一个栅极信号输入端子，所述栅极信号输入端子电连接所述栅线。本发明实施例还提供了一种基板的退火方法和退火设备。

著录项

公开/公告号CN104617113B

专利类型发明专利
公开/公告日2019-08-02

原文格式PDF
申请/专利权人京东方科技集团股份有限公司;
展开▼

申请/专利号CN201510069959.5
发明设计人秦纬;
展开▼

申请日2015-02-10
分类号
代理机构北京中博世达专利商标代理有限公司;
代理人申健
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
入库时间 2022-08-23 10:36:47

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2019-08-02

授权

授权
2015-06-10

实质审查的生效 IPC(主分类):H01L27/12 申请日:20150210

实质审查的生效
2015-06-10

实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 27/12 申请日:20150210

实质审查的生效
2015-05-13

公开

公开
2015-05-13

公开

公开

相似文献

专利
中文文献
外文文献

1. 一种基板及用于对其进行退火的退火方法、退火设备 [P] . 中国专利： CN104617113B . 2019.08.02
2. 用于对半导体材料的层进行退火的设备、对半导体材料的层进行退火的方法以及平板显示器 [P] . 中国专利： CN109643644A . 2019-04-16
3. APPARATUS FOR ANNEALING ELECTRON BEAM AND A METHOD FOR ANNEALING USING THE SAME, WHICH PERFORMS AN ANNEALING PROCESS WITH RESPECT TO A THIN FILM DEPOSITED ON A SUBSTRATE [P] . 韩国专利： KR20100068792A . 2010-06-24

机译：对电子束进行退火的装置以及使用相同方法进行退火的方法，该方法对沉积在基板上的薄膜执行退火过程
4. Method for preheating annealing products in a hood-type annealing system having two annealing bases receiving the annealing products under a protective hood, where the annealing products are preheated using gaseous heat transfer medium [P] . AT507423A4 . 2010-05-15

机译：在具有两个退火基座的罩式退火系统中预热退火产物的方法，该退火基座在保护罩下接收退火产物，其中使用气态传热介质对退火产物进行预热
5. IN-LINE ANNEALING APPARATUS AND METHOD OF ANNEALING SUBSTRATE USING THE SAME [P] . 美国专利： US2010040991A1 . 2010-02-18

机译：在线退火设备和使用该退火设备的基板退火方法