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控制图案形成过程的方法、器件制造方法、用于光刻设备的控制系统以及光刻设备

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摘要

性能测量目标用于在处理多个衬底之后测量光刻过程的性能。在设定阶段，该方法通过参考图案形成过程的预期参数从多个候选标记类型中选择对准标记类型和对准选配方案。在使用图案形成过程曝光多个测试衬底之后，通过比较由参考技术测量的图案形成过程的性能的测量性能(例如，重叠)来选择优选的量测目标类型和量测选配方案。基于在实际执行图案形成过程之后对位置测量标记和性能测量目标的测量，可以修正对准标记类型和/或选配方案，从而共同优化对准标记和量测目标。替代性的批次反馈策略也可以在过程的后续操作中进行比较。

著录项

公开/公告号CN108431695B

专利类型发明专利
公开/公告日2020-07-21

原文格式PDF
申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;
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申请/专利号CN201680076245.X
发明设计人 D·M·斯劳特布姆;M·屈珀斯;
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申请日2016-12-09
分类号
代理机构中科专利商标代理有限责任公司;
代理人王静
地址荷兰维德霍温
入库时间 2022-08-23 11:06:02

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2020-07-21

授权

授权
2018-09-14

实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20161209

实质审查的生效
2018-08-21

公开

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