首页> 中国专利> 等离子体处理容器的再生方法、等离子体处理容器内部部件、等离子体处理容器内部部件的制造方法以及等离子体处理装置

等离子体处理容器的再生方法、等离子体处理容器内部部件、等离子体处理容器内部部件的制造方法以及等离子体处理装置

摘要

在用氧化铝、稀土族氧化物、聚酰亚胺或聚苯并咪唑中任一种喷镀膜覆盖基材表面的等离子体处理容器内部部件的、随着在等离子体中使用而劣化的喷镀膜上,再喷镀与上述喷镀膜同样的材料。由此,能够使因在等离子体中的使用而表面产生劣化的等离子体处理容器再生得如同新品一样。

著录项

  • 公开/公告号CN100386467C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2008-05-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东京毅力科创株式会社;

    申请/专利号CN01820477.5

  • 发明设计人 今福光祐;

    申请日2001-12-07

  • 分类号C23C4/00(20060101);C23F4/00(20060101);

  • 代理机构11245 北京纪凯知识产权代理有限公司;

  • 代理人龙淳

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:00:41

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-12-07

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 4/00 授权公告日:20080507 终止日期:20171207 申请日:20011207

    专利权的终止

  • 2008-05-07

    授权

    授权

  • 2008-05-07

    授权

    授权

  • 2004-05-12

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-05-12

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-03-03

    公开

    公开

  • 2004-03-03

    公开

    公开

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