公开/公告号CN108977759B
专利类型发明专利
公开/公告日2020-10-02
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院近代物理研究所;
申请/专利号CN201811102618.3
申请日2018-09-20
分类号C23C14/02(20060101);C23C14/06(20060101);C23C14/16(20060101);C23C14/48(20060101);C23C14/54(20060101);
代理机构62100 甘肃省知识产权事务中心;
代理人马英
地址 730000 甘肃省兰州市城关区南昌路509号中国科学院近代物理研究所
入库时间 2022-08-23 11:15:51
机译: 用于金属等离子体浸没离子注入和金属等离子体浸没离子沉积的设备和方法
机译: 散裂的液态金属靶
机译: 用于通过溅射涂覆移动基板的管磁控管装置,包括连续点燃旋转管靶的靶表面上的等离子体,该靶被切换为阴极并且使用布置在管靶附近的阳极