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分析散射术计量中工艺变动的根本原因

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本发明提供方法、计量模块及RCA工具，其使用测量图谱中的(若干)谐振区域的行为以相对于对称及不对称因子评估及特征化工艺变动，且相对于工艺步骤提供所述工艺变动的根本原因分析。可使用具有不同层厚度及工艺变动因子的模型化堆叠的模拟来增强所述分析且对计量测量提供经改良目标设计、经改良算法及可校正项。可利用展现敏感谐振区域的特定目标来增强所述工艺变动评估。

著录项

公开/公告号CN108700463B

专利类型发明专利
公开/公告日2021-03-23

原文格式PDF
申请/专利权人科磊股份有限公司;
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申请/专利号CN201680082361.2
发明设计人 T·马西安诺;M·E·阿德尔;M·吉诺乌克;B·布林戈尔茨;D·克莱因;T·伊茨科维赫;V·拉马纳坦;J·坎普;
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申请日2016-11-01
分类号G01J3/28(20060101);G01J3/40(20060101);
代理机构11287 北京律盟知识产权代理有限责任公司;
代理人张世俊
地址美国加利福尼亚州
入库时间 2022-08-23 11:36:36

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