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像素界定层材料、像素界定层制造方法、显示基板和装置

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摘要

本发明提供一种像素界定层材料、显示基板的制造方法、显示基板、显示装置，属于显示技术领域，其可至少部分解决现有的显示基板中有机像素内膜高度不均匀的问题。本发明的像素界定层材料，包括像素界定层本体材料，所述像素界定层材料还包括分散在所述像素界定层本体材料内的由微外壳包裹的疏液型单体，所述微外壳能够在所述像素界定层材料受到第一激励的情况下而上浮且能在所述像素界定层材料受到第二激励的情况下而破裂。

著录项

公开/公告号CN109728056B

专利类型发明专利
公开/公告日2021-04-02

原文格式PDF
申请/专利权人京东方科技集团股份有限公司;
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申请/专利号CN201910003771.9
发明设计人胡春静;
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申请日2019-01-03
分类号H01L27/32(20060101);
代理机构11112 北京天昊联合知识产权代理有限公司;
代理人柴亮;张天舒
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
入库时间 2022-08-23 11:37:30

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