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一种中国樱桃高密度种植方法

摘要

本发明涉及农业种植领域,尤其涉及一种中国樱桃高密度种植方法。一种中国樱桃高密度种植方法,该方法包括以下步骤:1)采用行株距2.0~2.2 m×0.4~0.6m高密度种植;平地挖排水沟,行间采用二种方式之一种植:其一、定植在排水沟2侧,2行之间共用操作道路和采摘路;其二、定植在远离排水沟的中间位置,树体2侧均留出操作道路及采摘路;2)定植后单主干为高干、低干或高干低干组合,形成多道樱桃篱笆墙。该方法采用高密度种植并形成樱桃篱笆墙的方式,提高了土地利用率,用工量少且可以提高中国樱桃早期产量,方便采摘,在同一棚内可以不同时期开园减少损耗,是一种特别适合观光采摘业发达地区发展的新型栽培模式。

著录项

  • 公开/公告号CN110115187B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-08-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 浙江省农业科学院;

    申请/专利号CN201910328816.X

  • 申请日2019-04-23

  • 分类号A01G17/00(20060101);A01G7/06(20060101);A01G13/00(20060101);A01C21/00(20060101);

  • 代理机构33298 杭州恒翌专利代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人王从友

  • 地址 310021 浙江省杭州市石桥路198号

  • 入库时间 2022-08-23 12:21:45

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