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测量薄膜光学常数的方法、系统、计算设备和存储介质

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摘要

本公开涉及一种用于测量薄膜光学常数的方法、系统、计算设备和存储介质，该方法包括：获取关于待测对象的第一光谱数据，第一光谱数据至少指示待测对象在入射光的多个波长下、对应于多个测量角度的反射率；基于第一光谱数据，提取预定波长下的第一光谱数据，预定波长下的第一光谱数据指示待测对象在预定波长下、对应于多个测量角度的反射率；确定预定波长下的第一光谱数据中的最大反射率和最小反射率、第一测量角度和第二测量角度；以及基于最大反射率、最小反射率、第一测量角度和第二测量角度，确定待测薄膜在预定波长下的折射率。本公开能够实现无需提前假设薄膜光学常数满足的模型，以及准确测量薄膜的光学常数。

著录项

  • 公开/公告号CN112964651B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-01-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海复享光学股份有限公司;

    申请/专利号CN202110225675.6

  • 发明设计人 范灵杰;陈昂;石磊;李同宇;殷海玮;

    申请日2021-03-01

  • 分类号G01N21/25(20060101);G01N21/45(20060101);G01N21/47(20060101);G01N21/59(20060101);G06F17/15(20060101);

  • 代理机构11256 北京市金杜律师事务所;

  • 代理人黄倩

  • 地址 200433 上海市杨浦区国定东路200号4号楼412-1室

  • 入库时间 2022-08-23 12:53:49

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