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公开/公告号CN111146351B
专利类型发明专利
公开/公告日2022-01-07
原文格式PDF
申请/专利权人 上海大学;
申请/专利号CN202010001249.X
发明设计人 杨绪勇;孔令媚;丁星伟;吴家龙;
申请日2020-01-02
分类号H01L51/50(20060101);H01L51/52(20060101);H01L51/56(20060101);
代理机构31205 上海上大专利事务所(普通合伙);
代理人顾勇华
地址 200444 上海市宝山区上大路99号
入库时间 2022-08-23 12:54:43
机译: 具有双镶嵌结构的半导体元件形成在介电层结构中,该介电层结构包括具有第一结构的上层,蚀刻停止层和具有第二结构的下层
机译: 具有氮化栅极介电层的场效应晶体管的组成和生产,该氮化栅介电层具有您调整的垂直氮密度分布
机译: 用于动态随机存取存储单元的场效应晶体管,其栅极介电层的端子介电层的厚度大于栅极介电层的厚度
机译:定制介电层结构以提高有机场效应晶体管的性能:使用夹层的极介电层
机译:具有或不具有介电常数的介电层/薄金属膜/介电层结构的传输特性
机译:介电-介电界面处的俘获态对具有双层栅介电层的有机场效应晶体管稳定性的影响
机译:介电层/薄金属薄膜/二焦形层结构的传输特性,具有或在介电层中的周期性
机译:利用脉冲等离子体聚合技术研究具有共轭聚合物和高介电常数栅极电介质的场效应晶体管。
机译:量身定制介电层结构以增强有机场效应晶体管的性能:夹层极性介电层的使用
机译:在介电层中具有或不周期性的介电层/薄金属薄膜/介电层结构的传输特性
机译:包含具有高介电常数的颗粒的层。