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一种钨靶材组件两步热等静压扩散焊接方法

摘要

本发明公开了属于磁控溅射靶材制造技术领域的一种钨靶材组件两步热等静压扩散焊接方法。所述焊接方法,以钨靶坯与Al中间层先进行热等静压扩散焊接,然后再将其与铜背板进行第二次热等静压扩散焊接,最终获得钨靶材组件,所述钨靶材组件的钨靶坯‑Al中间层焊接面的焊接强度≥125MPa,Al中间层‑铜背板焊接面的焊接强度≥65MPa,两个焊接面的焊合率均>99.5%,焊接后靶材的整体变形程度小,并且适用于大功率的溅射机台,保证溅射过程中不会脱焊、掉靶。

著录项

  • 公开/公告号CN111014930B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-01-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 有研亿金新材料有限公司;

    申请/专利号CN201911336404.7

  • 申请日2019-12-23

  • 分类号B23K20/02(20060101);B23K20/16(20060101);B23K20/24(20060101);

  • 代理机构11246 北京众合诚成知识产权代理有限公司;

  • 代理人黄家俊

  • 地址 102200 北京市昌平区超前路33号

  • 入库时间 2022-08-23 13:01:23

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