首页> 中国专利> 在电荷擦除光学曝光工具中去除吸波长的气体的方法

在电荷擦除光学曝光工具中去除吸波长的气体的方法

摘要

一种用于通过光学手段减少集成电路中的电荷累积的过程包括将所述集成电路或者其中部分暴露在宽带辐射源下。该过程有效地减少了在制造集成电路中产生的电荷累积。

著录项

  • 公开/公告号CN100565807C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-12-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 艾克塞利斯技术公司;

    申请/专利号CN200710128771.9

  • 申请日2002-12-02

  • 分类号

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人王岳

  • 地址 美国马萨诸塞州

  • 入库时间 2022-08-23 09:03:26

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-01-20

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/268 授权公告日:20091202 终止日期:20141202 申请日:20021202

    专利权的终止

  • 2009-12-02

    授权

    授权

  • 2008-05-14

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-03-19

    公开

    公开

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