法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-09-17
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C22C 33/04 授权公告日:20100915 终止日期:20130725 申请日:20080725
专利权的终止
2010-09-15
授权
授权
2009-02-18
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-12-24
公开
公开
机译: 一种以钕,铁,硼为主要成分的稀土粉末或溅射靶的制造方法,由稀土元素或溅射靶构成的粉末,以钕,铁,硼为主成分的稀土磁铁用薄膜或生产方法
机译: 一种以钕,铁,硼为主要成分的稀土粉末或溅射靶的制造方法,由稀土元素或溅射靶构成的粉末,以钕,铁,硼为主成分的稀土磁铁用薄膜或生产方法
机译: 一种借助于稀土的条状碎片-铁硼合金生产各向异性稀土-铁-硼-复合磁体的方法。