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适用于产酸物的树脂和含有该树脂的化学放大正性光刻胶组合物

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本发明提供一种树脂，该树脂通过照射产生酸并且是有机阳离子和阴离子聚合物的盐，其中阴离子聚合物没有碳-碳不饱和键。本发明还提供包含该树脂的化学放大光刻胶组合物。

著录项

公开/公告号CN101003591B

专利类型发明专利
公开/公告日2011-08-17

原文格式PDF
申请/专利权人住友化学株式会社;
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申请/专利号CN200610168220.0
发明设计人安藤信雄;武元一树;吉田勋;原田由香子;
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申请日2006-12-26
分类号
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司;
代理人顾晋伟
地址日本东京都
入库时间 2022-08-23 09:07:32

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2014-02-19

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C08F 20/06 授权公告日:20110817 终止日期:20121226 申请日:20061226

专利权的终止
2011-08-17

授权

授权
2008-11-26

实质审查的生效

实质审查的生效
2007-07-25

公开

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1. 适用于产酸物的树脂和含有该树脂的化学放大正性光刻胶组合物 [P] . 中国专利： CN101003591B . 2011.08.17
2. 含有多元醇化合物、酸酐化合物和热固化性树脂的热固化性树脂组合物及多元羧酸树脂、以及使用了其的热固化性树脂组合物、以及使用了前述热固化性树脂组合物中的任一种作为封装材料或者反射材料的光半导体装置 [P] . 中国专利： CN107250282A . 2017-10-13
3. Copolymer for matrix resin of chemically amplified positive photoresist composition and chemically amplified photoresist composition containing the same [P] . 韩国专利： KR19980076579A . 1998-11-16

机译：化学放大正性光刻胶组合物的基质树脂共聚物和包含该基质树脂的化学放大光刻胶组合物
4. Resin suitable for an acid generator and a chemically amplified positive resist composition containing the same [P] . 美国专利： US2007149702A1 . 2007-06-28

机译：适用于产酸剂的树脂和包含该树脂的化学放大正型抗蚀剂组合物
5. Positive Photoresist Resin and Chemically Amplified Positive Photoresist Composition Containing the Resin [P] . 韩国专利： KR19980022329A . 1998-07-06

机译：正性光刻胶树脂和包含该树脂的化学放大正性光刻胶组合物

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