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公开/公告号CN101205444B
专利类型发明专利
公开/公告日2012-06-13
原文格式PDF
申请/专利权人 第一毛织株式会社;
申请/专利号CN200710199079.5
发明设计人 郑基成;金完中;洪容宇;丁畅范;郑喆;片雅滥;任首美;河京珍;
申请日2007-12-12
分类号
代理机构北京三幸商标专利事务所;
代理人刘激扬
地址 韩国庆尚北道龟尾市
入库时间 2022-08-23 09:09:50
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2012-06-13
授权
2008-08-20
实质审查的生效
2008-06-25
公开
机译: 压敏胶粘剂组合物,压敏胶粘剂膜,切割模片粘合膜和包含该组合物的半导体晶片
机译: 感光性胶粘剂组合物,膜胶粘剂,胶粘剂板,胶粘剂图案,具有胶粘剂层的半导体晶片,具有胶粘剂层的透明基质以及使用该组合物获得的半导电器件
机译:Pb硅晶片涂层硅晶片涂层:Pb粒子密度与亚相组合物之间的关系
机译:使用具有垂直馈通的SOI盖晶片的MEMS晶片级气密封装的先进MEMS工艺
机译:MEMS导向板,用于晶片级封装裸片晶片的高温测试
机译:创新的晶片到晶片3D集成方案:晶片到晶片的氧化物或铜的直接键合以及平坦化的氧化物晶片间填充
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机译:从水热晶体切割ZnO晶片的阴极发光研究2。杂志文章