机译:原子力显微镜系统,映射位于半导体设备中的一个或多个子表面结构或用于监视半导体设备中的光刻参数的方法以及使用此类原子力显微镜系统的方法
公开/公告号WO2019112424A8
专利类型
公开/公告日2019-08-29
原文格式PDF
申请/专利号WO2018NL50808
发明设计人 FILLINGER LAURENT;VAN NEER PAUL LOUIS MARIA JOSEPH;PIRAS DANIELE;VAN DER LANS MARCUS JOHANNES;VAN ES MAARTEN HUBERTUS;SADEGHIAN MARNANI HAMED;
申请日2018-12-04
分类号G01Q60/32;G01N29/06;G01N29/24;
国家 WO
入库时间 2022-08-21 11:54:25