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RESISTIVE RANDOM ACCESS MEMORY AND FABRICATION TECHNIQUES

机译:电阻式随机存取存储器和制造技术

摘要

A self-aligned memory device includes a conductive bottom plug disposed within an insulating layer and having a coplanar top surface, a self-aligned planar bottom electrode disposed upon the coplanar top surface and having a thickness within a range of 50 Angstroms to 200 Angstroms, a planar switching material layer disposed upon the self-aligned planar bottom electrode, a planar active metal material layer disposed upon the planar switching material layer and a planar top electrode disposed above the planar active metal material layer, wherein the self-aligned planar bottom electrode, the planar switching material layer, the planar active metal material layer, and the planar top electrode form a pillar-like structure above the insulating layer.
机译:一种自对准存储器件,包括:导电底部插塞,其布置在绝缘层内并具有共面的顶表面;自对准平面底部电极,其布置在共面的顶表面上,并且厚度在50埃至200埃之间;平面开关材料层设置在自对准平面底部电极上,平面活性金属材料层设置在平面开关材料层上,平面顶部电极设置在平面活性金属材料层上方,其中自对准平面底部电极平面开关材料层,平面活性金属材料层和平面顶部电极在绝缘层上方形成柱状结构。

著录项

  • 公开/公告号WO2019068094A1

    专利类型

  • 公开/公告日2019-04-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 CROSSBAR INC.;

    申请/专利号WO2018US53780

  • 发明设计人 JO SUNG-HYUN;NARAYANAN SUNDAR;GU ZHEN;

    申请日2018-10-01

  • 分类号H01L45;

  • 国家 WO

  • 入库时间 2022-08-21 11:55:19

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