机译:铜箔,带载体的铜箔,覆铜箔层压板,印刷电路板,半导体封装的电路形成基质,半导体封装,电子设备,树脂基质,电路板形成方法,工艺方法,工艺方法
公开/公告号WO2014192895A1
专利类型
公开/公告日2014-12-04
原文格式PDF
申请/专利号WO2014JP64343
发明设计人 ISHIIMASAFUMI;
申请日2014-05-29
分类号C25D7/06;C25D5/10;H05K1/09;H05K3/38;
国家 WO
入库时间 2022-08-21 15:09:52