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Photoresists for EUV based on photonic crystals

机译:基于光子晶体的EUV光刻胶

摘要

Embodiments of the present invention provide EUV (extreme ultraviolet) photoresists comprising photonic crystals, as well as other components. Photonic crystals in general provide the ability not only to block light transmission, but also to create resonant pockets in which light can propagate. The photonic crystals are based on bio-related polymers that are capable of self-assembly into crystalline form.
机译:本发明的实施例提供了包括光子晶体以及其他成分的EUV(极端紫外线)光致抗蚀剂。通常,光子晶体不仅具有阻止光传输的能力,而且还提供了可以在其中传播光的谐振腔的能力。光子晶体基于生物相关的聚合物,能够自组装成晶体形式。

著录项

  • 公开/公告号DE112007002550T5

    专利类型

  • 公开/公告日2009-09-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 INTEL CORPORATION;

    申请/专利号DE20071102550T

  • 发明设计人

    申请日2007-10-29

  • 分类号G03F7/039;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 19:09:23

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