首页> 外国专利> Growth of GaN on sapphire with MSE grown buffer layer

Growth of GaN on sapphire with MSE grown buffer layer

机译:使用MSE生长的缓冲层在蓝宝石上生长GaN

摘要

A method of fabricating a gallium nitride or like epilayer on sapphire is disclosed wherein a buffer layer is grown on the sapphire substrate by magnetron sputter epitaxy (MSE); and then the gallium nitride epilayer is formed on the buffer layer, preferably by molecular beam epitaxy.
机译:公开了一种在蓝宝石上制造氮化镓或类似外延层的方法,其中通过磁控溅射外延(MSE)在蓝宝石衬底上生长缓冲层。然后优选通过分子束外延在缓冲层上形成氮化镓外延层。

著录项

  • 公开/公告号US6291318B1

    专利类型

  • 公开/公告日2001-09-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NATIONAL RESEARCH COUNCIL OF CANADA;

    申请/专利号US19990412395

  • 发明设计人 JAMES WEBB;HAIPENG TANG;

    申请日1999-10-05

  • 分类号H01L217/60;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 01:03:17

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号