首页> 外国专利> GROWTH OF GAN ON SAPPHIRE WITH MSE GROWN BUFFER LAYER

GROWTH OF GAN ON SAPPHIRE WITH MSE GROWN BUFFER LAYER

机译:带有MSE增长缓冲区的蓝宝石上GAN的生长

摘要

A method of fabricating a gallium nitride or like epilayer on sapphire is disclosed wherein a buffer layer is grown on the sapphire substrate by magnetron sputter epitaxy (MSE); and then the gallium nitride epilayer is formed on the buffer layer, preferably by molecular beam epitaxy.
机译:公开了一种在蓝宝石上制造氮化镓或类似外延层的方法,其中通过磁控溅射外延(MSE)在蓝宝石衬底上生长缓冲层。然后优选通过分子束外延在缓冲层上形成氮化镓外延层。

著录项

  • 公开/公告号CA2284475C

    专利类型

  • 公开/公告日2008-09-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NATIONAL RESEARCH COUNCIL OF CANADA;

    申请/专利号CA19992284475

  • 发明设计人 TANG HAIPENG;WEBB JAMES BRIAN;

    申请日1999-10-04

  • 分类号C30B29/38;C30B23/02;C30B25/06;C30B25/18;C30B30/04;

  • 国家 CA

  • 入库时间 2022-08-21 20:04:06

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号