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The analyzer by ellipsometry, the method of analysis ellipsometry of a sample and the application to the extent of variation of thickness of the thin layers

机译:椭圆偏光分析仪,样品椭圆偏光分析方法及薄层厚度变化程度的应用

摘要

For analyzing samples e by ellipsometry, and method of analysis. / p & & p & the light beam f passes through a polarizer 4, a birefringent plate 5, rotating omega and a light-flux analyzer 6. The measurement is used for the harmonics two and four of the speed of rotation of the blade 5. / p & & p & application in particular to the growth and the etching of thin layers.
机译:用于通过椭圆偏振光分析样品,以及分析方法。 & &光束f穿过偏振器4,双折射板5,旋转的ω和光通量分析器6。该测量用于叶片5的旋转速度的二次谐波和二次谐波。 ; & &尤其适用于薄层的生长和蚀刻。

著录项

  • 公开/公告号FR2628211B1

    专利类型

  • 公开/公告日1993-05-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 VAREILLE AIME;VUILLOD YVES;THEVENOT LOUIS;

    申请/专利号FR19880002784

  • 发明设计人

    申请日1988-03-04

  • 分类号G01N21/23;

  • 国家 FR

  • 入库时间 2022-08-22 05:00:21

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