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机译:获得特别高纯度的晶体氯化镧的方法
公开/公告号PL262581A1
专利类型
公开/公告日1988-07-07
原文格式PDF
申请/专利权人
申请/专利号PL19860262581
发明设计人
申请日1986-11-24
分类号C01F;G01N;
国家 PL
入库时间 2022-08-22 06:59:05
机译: 获得特别高纯度的晶体氯化镧的方法
机译: 高纯镧,高纯镧,以高纯镧为靶的溅射靶的制造方法以及以高纯镧为主要成分的金属栅膜的制造方法
机译: 高纯镧,高纯镧,由高纯镧组成的溅射靶材和以高纯镧为主要成分的金属栅膜的制造方法