首页> 外国专利> A method for manufacturing of a a p - conductive epitaxially grown gallium arsenide - layer and a monocrystalline n - conductive gallium arsenide with the position existing half conductor body

A method for manufacturing of a a p - conductive epitaxially grown gallium arsenide - layer and a monocrystalline n - conductive gallium arsenide with the position existing half conductor body

机译:具有位置存在半导体的p导电外延生长的砷化镓层和单晶n导电砷化镓的制造方法。

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号DE1963131B2

    专利类型

  • 公开/公告日1973-06-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号DE19691963131

  • 发明设计人

    申请日1969-12-17

  • 分类号B01J17/04;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-23 07:09:13

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