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实时椭偏术及其在薄膜生长过程中的应用

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基于旋转器件的多通道椭偏仪的设计使得它们可以用于诸如原位、实时等薄膜以及表面的分析。利用叠加光源组合可将光谱上限扩展至6.5 eV的远紫外波段。双旋转补偿器椭偏仪改变了入射以及反射光的偏振态，不仅可以得到传统椭偏角(ψ，△)，还可以得到反射光束的斯托克斯矢量。因此这可以提供光束截面上样品厚度变化信息，并可减小多重散射光效应，从而可以分析非均匀以及宏观粗糙表面。这些进展可用于平板显示技术中硅薄膜生长厚度演化的研究。

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来源
《2009年中国计量测试学会光辐射计量学术研讨会》|2009年|520-524|共5页
会议地点桂林
作者
陈赤; 刘文德; 巩岩; 张巍;
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作者单位

中国计量测试学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类薄膜的生长、结构和外延;
关键词
实时椭偏术; 薄膜生长; 薄膜光学性质; 表面粗糙度; 偏振态;

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