首页> 中文会议>长三角光子科技创新论坛暨2006年安徽博士科技论坛 >NSRL的同步辐射X射线深度光刻技术

NSRL的同步辐射X射线深度光刻技术

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

本文利用合肥光源LIGA线站对同步辐射深度X射线曝光及显影工艺进行研究,获得了深度X射线曝光和显影的稳定工艺条件,得到高质量的光刻胶图形。

著录项

来源
《长三角光子科技创新论坛暨2006年安徽博士科技论坛》|2006年|221-225|共5页
会议地点合肥
作者
郭育华; 刘刚; 田扬超;
展开▼
作者单位

中国光学学会;

浙江省光学学会;

安徽省光学学会;

江苏省激光与工程光学学会;

展开▼
会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类光刻、掩膜;X射线;
关键词
深度X射线曝光; 显影速率; 光刻胶图形; 稳定工艺;

相似文献

中文文献
外文文献
专利

1. 同步辐射X射线光刻技术 [J] . 张东平 ,乐德芬 ,胡一贯 . 应用光学 . 2001,第004期
2. 深亚微米同步辐射x射线光刻技术 [J] . 谢常青 ,叶甜春 . 半导体情报 . 2000,第006期
3. 0.5μm分辨率同步辐射X射线光刻技术 [J] . 谢常青 ,伊福廷 . 微细加工技术 . 1999,第003期
4. 纳米尺寸同步辐射X射线光刻技术研究 [J] . 叶甜春 ,吴沐新 ,等 . 北京同步辐射装置年报 . 1997,第001期
5. 同步辐射X射线光刻技术研究 [J] . 谢常青 ,陈梦真 . 半导体技术 . 1996,第2期
6. 纳米尺寸同步辐射X射线光刻技术研究 [C] . 叶甜春 . 第九届全国电子束.离子束.光子束学术年会 . 1997
7. 同步辐射软X射线辐射效应研究 [A] . 陈亮 . 2010

获取原文

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

客服微信
服务号