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BCN薄膜的制备及光电性能研究

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摘要

本文采用射频溅射技术,在硅和石墨衬底上制备出六方BCN薄膜,并应用IR、XRD、XPS手段系统地研究了沉积参数对BCN膜生长及结构的影响.也研究了BCN膜的光学、电学、场电子发射及内应力等性能.本文着重报导BCN薄膜的制备及其光、电性能.

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来源
《第二届全国金属功能材料第九届全国非晶态材料和物理第三届全国稀土永磁材料联合学术研讨会》|2001年|122-124|共3页
会议地点北京
作者
陈光华; 蔡让歧; 李英兰; 岳金顺; 贺德衍; 陈光华;
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作者单位

中国金属学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类 TN304.055;O484.42;
关键词
硼碳氮薄膜; 射频溅射; 光-电特性;

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