ECR PECVD制备用于平面光波导的SiO<,2>薄膜及掺Ge-SiO<,2>/Si类薄膜的研究

著录项

• 来源
  《第九届全国等离子体科学技术会议》|1999年|101-104|共4页
• 会议地点 大连
• 作者

  张劲松; 任兆杏; 梁荣庆; 隋毅峰; 刘卫;

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• 作者单位

  中国力学学会;

  中国核学会;

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• 会议组织
• 正文语种
• 原文格式 PDF
• 中图分类 薄膜的生长、结构和外延;
• 关键词

  电子回旋共振; 平面光波导; SiO,2薄膜; Ge-SiO,2/Si类薄膜;