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耳状碳纳米片薄膜的合成及其场发射性能研究

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本文采用激光处理技术对金属铝膜衬底进行特殊预处理，然后采用微波等离子体化学气相沉积设备，在陶瓷/金属铝膜衬底上沉积出了较大面积(4cm2)并具有复杂表面结构的耳状碳纳米片薄膜，从形貌上看对经激光处理的区域除了生长有大量均匀分布的耳状碳纳米片外，其间还存在许多类项链状纳米碳结构(即在线度较长的碳纳米棒上缠绕生长的耳状碳纳米片结构)。而未经激光处理部分的表面形貌除了大量均匀分布的耳状碳纳米片外并没有出现这种类项链状的纳米碳结构。分别用扫描电子显微镜(SEM)，金相显微镜和X射线衍射谱区(XRD)及Raman 谱对样品进行了结构分析测试。进一步的场致发射测试结果显示:此种耳状纳米片碳薄膜具有场发射面积大(>4cm2)、发射点密度高且发射均匀的特征，其场电子发射闭值电场较低 (<1.0V/μm)，并在外加电场5.8v/μm的条件下得到了3.2mA/cm2的较高的场发射电流密度。

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来源
《中国电子学会真空电子学分会第十八届学术年会暨军用微波管研讨会》|2011年|767|共1页
会议地点张家界
作者
王小平; 王丽军;
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作者单位

中国电子学会真空电子学分会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类特种结构材料;
关键词
纳米片薄膜; 化学气相沉积; 场发射性能; 拉曼光谱;

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