Yokohama National University, 79-5 Tokiwadai Hodogaya Yokohama 240-8501 Japan;
Yokohama National University, 79-5 Tokiwadai Hodogaya Yokohama 240-8501 Japan;
NuFlare Technology, Inc., 8-1 Shinsugita Isogo Yokohama 235-8522 Japan;
NuFlare Technology, Inc., 8-1 Shinsugita Isogo Yokohama 235-8522 Japan;
Kanto Denka Kogyo Co., Ltd, Kanda Awaji-cho Chiyoda Tokyo 101-0063 Japan;
Etching; Silicon carbide; Inductors; Coatings; Cleaning; Carbon; Films;
机译:适用于SiC反应器清洁的基座涂层材料
机译:用于4H-SiC生长的感受器涂层材料
机译:化学清洗工艺对蒸汽发生器二次侧的适用性,(IV)化学清洗的综合适用性评估及其对除蒸汽发生器管以外的其他结构材料完整性的影响
机译:适用于SiC反应器清洁的基座涂层材料
机译:酶-聚合物杂化物,用于高度稳定的功能材料和自清洁涂料。
机译:AuNPs含量低的TiO2-SiO2涂料用于生产自清洁建筑材料
机译:C / C-SiC复合材料表面上ZrB 2 sub> -sic-Aln等离子体涂层的结构和相组成
机译:航空航天陶瓷材料:用于涡轮发动机应用的热,环境屏障涂层和siC / siC陶瓷基复合材料。