Vehicle Technology Center US Army Research Laboratory Glenn Research Center at Lewis Field 21000 Brookpark Rd. Cleveland, OH 44135;
rnNASA Glenn Research Center 21000 Brookpark Road Cleveland, Ohio 44135;
rnCleveland State University 2121 Euclid Avenue Cleveland, OH 44115;
机译:等离子喷涂硅氮化物的强度下降机理
机译:用于CMOS栅极垫片技术的氮化硅图案化。一,CH3F / O2 / He高密度等离子体中硅消耗的机理
机译:氮化硅无压烧结氮化硅陶瓷中赫兹接触损伤的强度退化
机译:等离子体喷涂硅氮化物中的强度降解机制
机译:三氟化氮/乙烯等离子体中的氧化硅和氮化硅蚀刻机理。
机译:用石墨烯氧化物和热解硅涂层氮化硼的二元填料杂交复合物的热性能
机译:界面粗糙度和粘结涂层喷涂方法对空气等离子喷涂热障涂层粘合强度的影响
机译:Ti-蒸汽涂覆的氮化硅钎焊接头的强度测试