Department of Optics Photonics Thin Film Technology Center, National Central University, Chung-Li, 320, Taiwan;
titanium dioxide; tantalum pentoxide; composite films; ion beam sputtering;
机译:沉积参数对射频磁控溅射制备Ba(Sn_xTi_(1-x))O_3薄膜的生长速率和介电性能的影响
机译:减少射频离子束溅射沉积制备的光学氮化硅薄膜中的残余应力
机译:减少射频离子束溅射沉积制备的光学氮化硅薄膜中的残余应力
机译:脉冲激光沉积制备(Ta_2O_5)_0.92(TiO_2)_0.08薄膜
机译:TiO_2薄膜的反应溅射沉积工艺分析参见用法统计
机译:射频溅射制备锂离子微电池多孔Li-Fe-P-O薄膜阴极
机译:通过射频溅射制备的铜和铁基薄膜纳米复合材料。第一部分:使用可控的原位还原工艺精制和表征金属/氧化物薄膜纳米复合材料