Department of Optical Engineering, Beijing Institute of Technology, Beijing, 100081, China;
Department of Precision Instruments, Tsinghua University, Beijing, 100084, China;
Department of Industrial and Systems Engineering, The Hong Kong Polytechnic Univer;
material removal function; computer-controlled manufacturing; power spectral density; filter of mean square estimation; iterative calculation;
机译:光学制造中材料去除功能的频谱特征
机译:[aba_2cl] [ga_4s_8](a = rb,cs):通过聚替换替代诱导的非线性光学(NLO)的宽频谱非线性光学材料 - 函数基序排序
机译:覆盖GHz,THz和光频率的微纳米器件的2D图案化材料的电磁功能
机译:光学制造中材料去除功能的频谱特征
机译:新型光学材料的研究。 I.〜新型光变频器的晶体化学开发。 II。〜铬(III)发光和发射的新主体
机译:材料去除过程中绿色制造的可持续度量定义与评估方法
机译:ABA2CL GA4S8(A = RB,CS):通过聚替代替代诱导的非线性光学(NLO)的宽频谱非线性光学材料 - 功能基序排序
机译:高模量复合材料加工工艺的制造方法。第一卷材料去除试验和结果。